PARFUM-77.RU

Гребной тренажер Proxima FW-6583A Remos llI


109990 RUR
FW-6583A Remos llI Proxima

Proxima / FW-6583A Remos llI / похожие

Подробнее

Ботинки CMP Ботинки 38Q4514


CMP Ботинки 38Q4514 Верх из текстиля. Водонепроницаемая мембрана Clima Protect. Застежка на липучке.

5641 RUR
Ботинки 38Q4514 CMP

CMP / Ботинки 38Q4514 / похожие

Подробнее

Yuzhuo Li Microelectronic Applications of Chemical Mechanical Planarization


An authoritative, systematic, and comprehensive description of current CMP technology Chemical Mechanical Planarization (CMP) provides the greatest degree of planarization of any known technique. The current standard for integrated circuit (IC) planarization, CMP is playing an increasingly important role in other related applications such as microelectromechanical systems (MEMS) and computer hard drive manufacturing. This reference focuses on the chemical aspects of the technology and includes contributions from the foremost experts on specific applications. After a detailed overview of the fundamentals and basic science of CMP, Microelectronic Applications of Chemical Mechanical Planarization: * Provides in-depth coverage of a wide range of state-of-the-art technologies and applications * Presents information on new designs, capabilities, and emerging technologies, including topics like CMP with nanomaterials and 3D chips * Discusses different types of CMP tools, pads for IC CMP, modeling, and the applicability of tribometrology to various aspects of CMP * Covers nanotopography, CMP performance and defect profiles, CMP waste treatment, and the chemistry and colloidal properties of the slurries used in CMP * Provides a perspective on the opportunities and challenges of the next fifteen years Complete with case studies, this is a valuable, hands-on resource for professionals, including process engineers, equipment engineers, formulation chemists, IC manufacturers, and others. With systematic organization and questions at the end of each chapter to facilitate learning, it is an ideal introduction to CMP and an excellent text for students in advanced graduate courses that cover CMP or related semiconductor manufacturing processes.

18165.21 RUR

/ / похожие

Подробнее

Школьные рюкзаки Magtaller Рюкзак школьный Cosmo llI Owl


Magtaller Рюкзак школьный Cosmo llI Owl 36х29х18 см. Спинка рюкзака дополнительно усилена рамкой из алюминия повторяющей естественный изгиб позвоночника. Дно из PVC и ножки из прочного пластика надежно защищает содержимое рюкзака от воды и грязи. Лямки, регулируемые по высоте и длине, позволяют удобно расположить рюкзак на спине, два внутренних отделения с органайзером. Передний и два боковых кармана на молнии. Светоотражающие элементы спереди, сбоку, на плечевых лямках. Вес - 850 г.

2490 RUR
Рюкзак школьный Cosmo llI Owl Magtaller

Magtaller / Рюкзак школьный Cosmo llI Owl / похожие

Подробнее

Кроссовки CMP Кроссовки 38Q9894


CMP Кроссовки 38Q9894 - легкие удобные кроссовки идеально подойдут для прогулки и создадут комфорт ножке ребенка. Материал: Материал верха - 100% Полиэстер Материал подкладки - 100% Полиэстер Материал стельки - Полиэстер, резина Материал подошвы - Термопластичная резина

2204 RUR
Кроссовки 38Q9894 CMP

CMP / Кроссовки 38Q9894 / похожие

Подробнее

Joseph Steigerwald M. Chemical Mechanical Planarization of Microelectronic Materials


Chemical Mechanical Planarization (CMP) plays an important role in today's microelectronics industry. With its ability to achieve global planarization, its universality (material insensitivity), its applicability to multimaterial surfaces, and its relative cost-effectiveness, CMP is the ideal planarizing medium for the interlayered dielectrics and metal films used in silicon integrated circuit fabrication. But although the past decade has seen unprecedented research and development into CMP, there has been no single-source reference to this rapidly emerging technology-until now. Chemical Mechanical Planarization of Microelectronic Materials provides engineers and scientists working in the microelectronics industry with unified coverage of both the fundamental mechanisms and engineering applications of CMP. Authors Steigerwald, Murarka, and Gutmann-all leading CMP pioneers-provide a historical overview of CMP, explain the various chemical and mechanical concepts involved, describe CMP materials and processes, review the latest scientific data on CMP worldwide, and offer examples of its uses in the microelectronics industry. They provide detailed coverage of the CMP of various materials used in the making of microcircuitry: tungsten, aluminum, copper, polysilicon, and various dielectric materials, including polymers. The concluding chapter describes post-CMP cleaning techniques, and most chapters feature problem sets to assist readers in developing a more practical understanding of CMP. The only comprehensive reference to one of the fastest growing integrated circuit manufacturing technologies, Chemical Mechanical Planarization of Microelectronic Materials is an important resource for research scientists and engineers working in the microelectronics industry. An indispensable resource for scientists and engineers working in the microelectronics industry Chemical Mechanical Planarization of Microelectronic Materials is the only comprehensive single-source reference to one of the fastest growing integrated circuit manufacturing technologies. It provides engineers and scientists who work in the microelectronics industry with unified coverage of both the fundamental mechanisms and engineering applications of CMP, including: * The history of CMP * Chemical and mechanical underpinnings of CMP * CMP materials and processes * Applications of CMP in the microelectronics industry * The CMP of tungsten, aluminum, copper, polysilicon, and various dielectrics, including polymers used in integrated circuit fabrication * Post-CMP cleaning techniques * Chapter-end problem sets are also included to assist readers in developing a practical understanding of CMP.

18610.35 RUR

/ / похожие

Подробнее

Дутики и сноубутсы CMP Сапоги Baby Ehos WP


CMP Сапоги Baby Ehos WP Сапоги Baby Ehos WP - дутые сапожки с верхом из блестящего текстиля с полиуретановым рантом. Подкладка из искусственного меха. Мембрана Clima Protect. Стелька с технологией Hi-Poly Foam. Резиновая подошва CMP FullOnGRIP. Застежка на молнии и велькро спереди.

3424 RUR
Сапоги Baby Ehos WP CMP

CMP / Сапоги Baby Ehos WP / похожие

Подробнее

Дутики и сноубутсы CMP Сапоги Baby Latu Snow boots


CMP Сапоги Baby Latu Snow boots Baby Latu Snow boots - детские полусапоги для активного отдыха. Материал верха - полиэстер. Подкладка и стелька из шерсти. Подошва из термопластичной резины гарантирует устойчивость и надежное сцепление с поверхностями.

3168 RUR
Сапоги Baby Latu Snow boots CMP

CMP / Сапоги Baby Latu Snow boots / похожие

Подробнее

Босоножки и сандалии CMP Сандалии 30Q9664


CMP Сандалии - легкие удобные сандалии идеально подойдут для прогулки и создадут комфорт ножке ребенка. Материал: Материал верха - ПУ Материал подкладки - 60% Другие материалы, 40% Полиэстер Материал стельки - ЭВА Материал подошвы - Резина

1728 RUR
Сандалии 30Q9664 CMP

CMP / Сандалии 30Q9664 / похожие

Подробнее

Кроссовки CMP Кроссовки 30Q9674


CMP Кроссовки - легкие удобные кроссовки идеально подойдут для прогулки и создадут комфорт ножке ребенка. Материал: Материал верха - 100% Полиэстер Материал подкладки - 100% Полиэстер Материал стельки - Полиэстер, резина Материал подошвы - Термопластичная резина

2543 RUR
Кроссовки 30Q9674 CMP

CMP / Кроссовки 30Q9674 / похожие

Подробнее

MADE IN JAPAN OLFA 18MM Heavy Duty Compass Circle Cutter(CMP-2)/from 3 to 12 inch diameter CMP-2(90B) 10pcs extra blades lb-10

Ботинки CMP Ботинки 38Q9984


CMP Ботинки - легкие удобные ботинки идеально подойдут и создадут комфорт ножке ребенка. Материал: Материал верха - Замша Материал подкладки - 100% Полиэстер Материал стельки - ЭВА Материал подошвы - Резина

3274 RUR
Ботинки 38Q9984 CMP

CMP / Ботинки 38Q9984 / похожие

Подробнее

Босоножки и сандалии CMP Сандалии 39Q9614


CMP Сандалии - легкие удобные сандалии идеально подойдут для прогулки и создадут комфорт ножке ребенка. Материал: Материал верха - ПУ Материал подкладки - 60% Кожа; 40% Полиэстер Материал стельки - Натуральная кожа Материал подошвы - Термопластичная резина

1819 RUR
Сандалии 39Q9614 CMP

CMP / Сандалии 39Q9614 / похожие

Подробнее

Кроссовки CMP Кроссовки 3Q54554


CMP Кроссовки 3Q54554 - легкие удобные кроссовки идеально подойдут для прогулки и создадут комфорт ножке ребенка. Материал: Материал верха - 100% Полиэстер Материал подкладки - 100% Полиэстер Материал стельки - Полиэстер, резина Материал подошвы - Термопластичная резина

2712 RUR
Кроссовки 3Q54554 CMP

CMP / Кроссовки 3Q54554 / похожие

Подробнее

OLFA CMP-1(1-15cm) Rotary Compass Circle Cutter Cutting Circle Knife Utility,OLFA CMP-1/DX(1.6-22cm) Fabric Knife Utility

Екатеринбург


Екатеринбург

1199 RUR
Printbar

Printbar / / похожие

Подробнее

Екатеринбург


Екатеринбург

1199 RUR
Printbar

Printbar / / похожие

Подробнее

Волгоград


Волгоград

999 RUR
Printbar

Printbar / / похожие

Подробнее

Волгоград


Волгоград

999 RUR
Printbar

Printbar / / похожие

Подробнее

Екатеринбург


Екатеринбург

2099 RUR
Printbar

Printbar / / похожие

Подробнее
parfum-77.ru — Каталог цен и описаний на компьютерную и бытовую технику, товары для офис и дома, электронику, товаров для сада и дачи. Мы занимаемся поиском лучших цен в интернет магазинах по всей России, знаем где купить CMP by F LLI CAMPAGNOLO по оптимальной цене в онлайн-магазинах. На нашем сайте parfum-77.ru предоставлена вся необходимая информация для правильной покупки CMP by F LLI CAMPAGNOLO — фотографии товаров, отзывы пользователей, поиск по модели и производителю, наименованию или модели, инструкции по эксплуатации, а так же экспертные обзоры, сайты предлагающие покупу онлайн с доставкой заказа в ваш город.